首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
制造晶片上解耦电容之方法与装置
摘要
一种制造解耦电容器之方法包括:沉积一第一障壁金属于一导电金属。第一障壁金属系作用为解耦电容器之一第一电极。一介电质系沉积于第一障壁金属。一第二障壁金属系沉积于介电质。第二障壁金属系作用为解耦电容器之一第二电极。一光阻系曝光至紫外线。光阻系施加于第二障壁金属。一光罩系利用以界定解耦电容器之一大概的形状。第二障壁金属之一部分系蚀刻。光阻之一量系移除。
申请公布号
TW200406820
申请公布日期
2004.05.01
申请号
TW092125885
申请日期
2003.09.19
申请人
英特尔公司
发明人
布鲁斯 布克;克里斯多弗 汤玛斯
分类号
H01L21/02;H01L29/00
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
美国
您可能感兴趣的专利
一种新式蓝牙助听耳机
一种钢丝质量甄别设备
一种电路连接件
一种定时感应搅拌机
有机废气净化设备
一种塑料废品破碎搅拌装置
一种割草机
一种可控制宠物活动范围的宠物控制器
一种适用于沙漠植被的集水漏斗
一种兔笼锁紧机构
一种明日叶盆栽装置
一种蔬菜水果种植定向节水灌溉器
一种双伸缩机械臂
一种半喂入式花生摘果实验台
一种菌包装袋机中的抱筒行走机构
种蛋胚胎生命特征自动识别设备
一种袋装食用菌的自动接种装置
一种带激光发射器的逗猫装置
一种食用菌栽培用太阳能供电节能大棚
一种火龙果种植系统