发明名称 制造晶片上解耦电容之方法与装置
摘要 一种制造解耦电容器之方法包括:沉积一第一障壁金属于一导电金属。第一障壁金属系作用为解耦电容器之一第一电极。一介电质系沉积于第一障壁金属。一第二障壁金属系沉积于介电质。第二障壁金属系作用为解耦电容器之一第二电极。一光阻系曝光至紫外线。光阻系施加于第二障壁金属。一光罩系利用以界定解耦电容器之一大概的形状。第二障壁金属之一部分系蚀刻。光阻之一量系移除。
申请公布号 TW200406820 申请公布日期 2004.05.01
申请号 TW092125885 申请日期 2003.09.19
申请人 英特尔公司 发明人 布鲁斯 布克;克里斯多弗 汤玛斯
分类号 H01L21/02;H01L29/00 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 美国