发明名称 互连、互连成形方法、薄膜电晶体及显示装置
摘要 根据本发明之一种互连形成方法,包括在绝缘体薄膜上形成金属扩散之阻障薄膜之步骤,一选择性在金属扩散之阻障薄膜上形成金属种子层之步骤,及选择性在金属种子层上利用无电镀方法形成金属导电层之步骤,及利用金属导电层为掩膜,蚀刻金属扩散之阻障层之步骤。
申请公布号 TW200406829 申请公布日期 2004.05.01
申请号 TW092124793 申请日期 2003.09.08
申请人 液晶先端技术开发中心股份有限公司 发明人 门昌辉;青森繁;山元良高
分类号 H01L21/28;H01L21/306 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 日本