| 发明名称 |
Patterning method using a photomask |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US2004081899(A1) |
申请公布日期 |
2004.04.29 |
| 申请号 |
US20030688960 |
申请日期 |
2003.10.21 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. |
发明人 |
MISAKA AKIO |
| 分类号 |
G03F1/00;G03F1/29;G03F1/32;G03F1/36;G03F1/68;(IPC1-7):G03F9/00;G06F17/50 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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