| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer sublithographischen Maske |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10217875(B4) |
申请公布日期 |
2004.04.29 |
| 申请号 |
DE20021017875 |
申请日期 |
2002.04.22 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
TEWS, HELMUT;FEHLHABER, RODGER |
| 分类号 |
H01L21/033;H01L21/3213;(IPC1-7):G03F1/00 |
主分类号 |
H01L21/033 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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