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发明名称 EXPOSURE APPARATUS, SURFACE POSITION ADJUSTMENT UNIT, MASK, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要
申请公布号 SG103303(A1) 申请公布日期 2004.04.29
申请号 SG20010004048 申请日期 2001.07.05
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 YOSHIKI KIDA;TSUNEO MIYAI
分类号 H01L21/027;G03F7/20;G03F9/00;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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