发明名称 |
使用多层基底中的埋入式电容器的耦接装置 |
摘要 |
本发明提出一种耦合器件,包括基底(1),覆盖所述基底(1)的第一表面的导电层(2),与所述第一表面相对设置的至少两条电磁耦合线路(3a、3b),所述至少两条电磁耦合线路中的至少一条由至少一个覆盖层(4、5)覆盖,其中在所述至少两条线路(3a、3b)中至少一条线路的第一端和所述导电层(2)之间连接至少一个电容器(C1、C2、C3、C4)。所述至少一个电容器是接地的埋入式电容器,以便均衡不等相速,否则不等相速会降低诸如多层LTCC中的微带之类不均匀基底结构中侧面耦接结构的性能。于是,本发明能够实现高性能的耦合器件,并且由此提供就宽带性能、大小和成本而论,所有可能设计方案中最好的设计方案。 |
申请公布号 |
CN1493093A |
申请公布日期 |
2004.04.28 |
申请号 |
CN01822899.2 |
申请日期 |
2001.02.28 |
申请人 |
诺基亚公司 |
发明人 |
萨马德·阿尔泰伊;格普尔吉·帕西奥普洛斯;马哈茂德·扎德;凯文·拉马克拉夫特;菲尔·莱恩 |
分类号 |
H01P5/18;H01P1/203;H01L23/64;H01P1/00;H01L23/538 |
主分类号 |
H01P5/18 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
董莘 |
主权项 |
1、一种耦合器件,包括:基底(1),覆盖所述基底(1)的第一表面的导电层(2),与所述第一表面相对设置的至少两条电磁耦合线路(3a、3b),所述至少两条电磁耦合线路中的至少一条由至少一个覆盖层(4、5)覆盖,其中在所述至少两条线路(3a、3b)中至少一条线路的第一端和所述导电层(2)之间连接至少一个电容器(C1、C2、C3、C4)。 |
地址 |
芬兰埃斯波 |