| 发明名称 |
Method of fabricating semiconductor by nitrogen doping of silicon film |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003279751(A8) |
申请公布日期 |
2004.04.23 |
| 申请号 |
AU20030279751 |
申请日期 |
2003.10.03 |
| 申请人 |
PAN JIT AMERICAS, INC. |
发明人 |
GEORGE ENGLE;STEVEN EVERS;MICHAEL KOUNTZ |
| 分类号 |
C23C16/24;C23C16/34;H01L21/205;H01L21/365;(IPC1-7):H01L21/20;H01L21/31;H01L21/36;H01L21/469 |
主分类号 |
C23C16/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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