| 主权项 |
1.一种导电构件,其可用于一图像形成装置,该导电构件包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其以大体可流动之状态密封于该圆柱形基体内。2.一种导电构件,其可用于一图像形成装置,包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内且未完全填满其内容积。3.一种导电构件,其可用于一图像形成装置,包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内,且其填充率系该圆柱形基体内容积之20至95%。4.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末之一填充率仅占该圆柱形基体内容积之20至95%。5.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末之一填充率系该圆柱形基体内容积之50至95%。6.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末之一填充率系该圆柱形基体内容积之70至95%。7.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末整体之一电阻値系在10-8至108欧姆之范围内。8.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末系一由不同种类之粉末组份所形成之混合物,且该等粉末组份中各粉末组份之一电阻値均在10-8至1017欧姆之范围内。9.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末之一数均颗粒直径系在10-5微米至1公厘之范围内。10.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该圆柱形基体包括一磁性材料。11.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该圆柱形基体属于一层状结构。12.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该圆柱形基体之外围表面包括一可变形材料,其可因该导电粉末之重量及/运动而变形。13.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该圆柱形基体可作一滚筒使用。14.如申请专利范围第1项之导电构件,其中尚包括一轴,其沿该圆柱形基体之一轴向穿过该圆柱形基体,且可作为该圆柱形基体之一转动轴。15.如申请专利范围第14项之导电构件,其中该轴系由设于该圆柱形基体两端之凸缘构件加以固定。16.如申请专利范围第15项之导电构件,其中该等凸缘构件系以一弹性材料制成。17.如申请专利范围第1项之导电构件,其中该导电粉末包含磁性粉末。18.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;及一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电,其中该充电构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其以大体可流动之状态密封于该圆柱形基体内。19.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;及一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电,其中该充电构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内且未完全填满其内容积。20.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;及一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电,其中该充电构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内,且其填充率系该圆柱形基体内容积之20至95%。21.如申请专利范围第18项之图像形成装置,其中该充电构件包括施加一直流偏压、或一与交流电压叠加之直流电压。22.如申请专利范围第18项之图像形成装置,其中可在该图像承载构件与该导电构件间提供一周边差速,使该图像承载构件与该导电构件各绕其轴而相对转动。23.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;及一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材上,其中该转印构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其以大体可流动之状态密封于该圆柱形基体内。24.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;及一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材上,其中该转印构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内且未填满其内容积。25.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;及一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材上,其中该转印构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内,且其填充率系该圆柱形基体内容积之20至95%。26.如申请专利范围第23项之图像形成装置,其中可在该图像承载构件与该导电构件间提供一周边差速,使该图像承载构件与该导电构件各绕其轴而相对转动。27.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该充电构件、该第一转印构件、及该第二转印构件至少其中一包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其以大体可流动之状态密封于该圆柱形基体内。28.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图家转印至一转印基材,其中该充电构件、该第一转印构件、及该第二转印构件至少其中一包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内且未填满其内容积。29.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该充电构件、该第一转印构件、及该第二转印构件至少其中一包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内,且其填充率系该圆柱形基体内容积之20至95%。30.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该充电构件、该第一转印构件、及该第二转印构件至少其中一包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其以大体可流动之状态密封于该圆柱形基体内,且该导电粉末包括磁性粉末,该图像形成装置尚包括:一磁场形成构件,其可形成一磁场,使该导电粉末被吸往该图像承载构件或该中间转印构件。31.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该充电构件、该第一转印构件、及该第二转印构件至少其中一包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内且未填满其内容积,且该导电粉末包括磁性粉末,该图像形成装置尚包括:一磁场形成构件,其可形成一磁场,使该导电粉末被吸往该图像承载构件或该中间转印构件。32.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一充电构件,其可接触该图像承载构件,俾为该图像承载构件之一表面充电;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该充电构件、该第一转印构件、及该第二转印构件至少其中一包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内,且其填充率系该圆柱形基体内容积之20至95%,且该导电粉末包括磁性粉末,该图像形成装置尚包括:一磁场形成构件,其可形成一磁场,使该导电粉末被吸往该图像承载构件或该中间转印构件。33.如申请专利范围第30项之图像形成装置,其中该磁场形成构件系一具有磁性之薄膜,其设于该图像承载构件或该中间转印构件之一内围表面上。34.如申请专利范围第30项之图像形成装置,其中该磁场形成构件系一磁力产生构件,其位于该图像承载构件或该中间转印构件之一内围部分上,且位置系与该导电构件相对。35.如申请专利范围第30项之图像形成装置,其中该图像承载构件或该中间转印构件包括一由磁性材料制成之基体,且该磁场形成构件即为该基体。36.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件,该中间转印构件之形状系一无端皮带;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该第二转印构件系一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉未,其以大体可流动之状态密封于该圆柱形基体内,且该导电粉末包括磁性粉末,该图像形成装置尚包括:一磁场形成构件,其可形成一磁场,使该导电粉末被吸往一支撑构件,该支撑构件系设于该中间转印构件之一内围部分上,且位置系与该第二转印构件相对。37.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件,该中间转印构件之形状系一无端皮带;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该第二转印构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内且未完全填满其内容积,且该导电粉末包括磁性粉末,该图像形成装置尚包括:一磁场形成构件,其可形成一磁场,使该导电粉末被吸往一支撑构件,该支撑构件系设于该中间转印构件之一内围部分上,且位置系与该第二转印构件相对。38.一种图像形成装置,包括:一图像承载构件;一第一转印构件,其可接触该图像承载构件,俾将该图像承载构件表面之一色剂图像转印至一中间转印构件,该中间转印构件之形状系一无端皮带;及一第二转印构件,其可接触该中间转印构件,俾将该中间转印构件一表面上之色剂图像转印至一转印基材,其中该第二转印构件包括一导电构件,其包括:一圆柱形基体;及导电粉末,其密封于该圆柱形基体内,且其填充率系该圆柱形基体内容积之20至95%,且该导电粉末包括磁性粉末,该图像形成装置尚包括:一磁场形成构件,其可形成一磁场,使该导电粉末被吸往一支撑构件,该支撑构件系设于该中间转印构件之一内围部分上,且位置系与该第二转印构件相对。图式简单说明:图1系一纵剖面图,其可说明一作为本发明一示范用具体实例之导电构件之结构。图2A系一剖面图,其剖面位置系图1中作为本发明一示范用具体实例之导电构件之A-A剖面线,该图显示导电粉末之填充率为50%时之状态。图2B系一剖面图,其剖面位置系图1中作为本发明一示范用具体实例之导电构件之A-A剖面线,该图显示导电粉末之填充率为80%时之状态。图3系一剖面图,显示一圆柱形基体因导电粉末而产生之一变形状态。图4系一剖面示意图,显示一图像承载构件与一导电构件间相对位置之一示范用具体实例。图5A及5B均系图像承载构件之结构剖面图,本发明之一导电构件最好即使用该种图像承载构件。图6系一构造示意图,显示本发明图像形成装置之一实例。图7系一示意图,显示一四行串列型全彩图像形成装置(本发明之一图像形成装置)之构造。图8系图7所示四行串列型全彩图像形成装置中一第二转印区之构造放大图。 |
