发明名称 电极装置及其制作方法
摘要 本发明讲述了一种电极装置及其制作方法,它至少可用于一种需要进行构造的薄膜,它包括以下步骤:准备好需要进行构造的薄膜,在需构造的薄膜上面放上一种掩膜,对需构造的薄膜进行干蚀。本发明方法的特征在于,掩膜含有一种金属硅化物,金属氮化物或金属氧化物等。本发明还提供了用上述方法制作的电极装置。
申请公布号 CN1146960C 申请公布日期 2004.04.21
申请号 CN98115662.2 申请日期 1998.07.03
申请人 西门子公司 发明人 V·维恩里赫;M·恩格尔哈德特;H·温德特;W·帕姆勒
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 马铁良;王忠忠
主权项 1.电极装置(10),具有:一个第一导电层(6),其材料实际上不受化学干蚀的腐蚀作用,和至少一个在第一导电层(6)上准备好的第二导电层(7),其材料通过化学干蚀至少有较小的腐蚀率,其特征在于,通过作为掩膜的第二导电层(7),第一导电层(6)的没受到第二导电层保护的区域是被干蚀消除了的。
地址 联邦德国慕尼黑