发明名称 |
电子照相用感光体及其制造方法 |
摘要 |
本发明的目的在于通过限制导电衬底的表面粗糙度来防止出现图像的干涉条纹,并且可以通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度。设置在电子照相用感光体(10)中的导电衬底(11)的表面粗糙度轮廓最大高度Ry=0.8~1.4μm、轮廓算术平均偏差Ra=0.10~0.15μm、微观不平度十点高度Rz=0.7~1.3μm和轮廓微观不平度的平均距离Sm=5~30μm,并且峰数Pc=60~100。在此电子照相用感光体(10)中,用于曝光的光束散射到可以避免干涉条纹的程度,并且在通过光学干涉测量法测量光敏层的厚度期间形成一种干涉图案,使得可以高精度地测量层的厚度。 |
申请公布号 |
CN1490676A |
申请公布日期 |
2004.04.21 |
申请号 |
CN03158942.1 |
申请日期 |
2003.09.12 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
桥本昌树;森田和茂;角井幹男;田中裕二;坂元雅遊亀 |
分类号 |
G03G5/00;G03G15/04;G01B11/06;H01S5/00 |
主分类号 |
G03G5/00 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
李瑞海;王景刚 |
主权项 |
1.一种电子照相用感光体(10),包括:导电衬底(11);和光敏层(15),位于导电衬底上并曝露于相干光下,其中,导电衬底的表面粗糙度为,轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)、微观不平度十点高度(Rz)和作为横截面曲线峰-峰间距平均值的轮廓微观不平度的平均距离(Sm)满足下式:(a)Ry=0.8~1.4μm(b)Ra=0.10~0.15μm(c)Rz=0.7~1.3μm(d)Sm=5~30μm,峰数Pc满足:(e)Pc=60~100。 |
地址 |
日本大阪府 |