| 发明名称 |
Improved deposition shield in a plasma processing system,and methods of manufacture of such shield |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003272031(A8) |
申请公布日期 |
2004.04.19 |
| 申请号 |
AU20030272031 |
申请日期 |
2003.09.29 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
HIDEHITO SAIGUSA;KOUJI MITSUHASHI;TAIRA TAKASE;HIROYUKI NAKAYAMA |
| 分类号 |
H01J37/32;H01L21/205;H01L21/306;H01L21/3065;H05H1/00;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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