摘要 |
Un aparato (10) para curar una resina fotosensible, comprendiendo dicho aparato (10): una fuente de radiación (20); y un reflector alargado (30) para dirigir dicha radiación en al menos una dirección radiante, teniendo dicho reflector (30) un primer extremo (34) y un segundo extremo (36) separado de dicho primer extremo (34) en una dirección longitudinal, y una sección transversal perpendicular a dicha dirección longitudinal, teniendo además dicho reflector (30) una superficie interior (31) y una superficie exterior (32), comprendiendo dicha superficie interior (31) una pluralidad de facetas reflectoras alargadas (35) orientadas paralelas a dicha dirección longitudinal, siendo dichas facetas reflectoras ajustables en dicha sección transversal, y en el que dicha superficie interior (31) de dicho reflector (30) comprende al menos una primera sección (30a) y una segunda sección (30b) conectada de manera móvil a dicha primera sección (30a), y preferiblemente una tercera sección (30c) conectadade manera móvil a dicha segunda sección (30b), teniendo dicha primera sección (30a) una primera pluralidad de facetas reflectoras (35a) para dirigir dicha radiación sustancialmente paralela a una primera dirección radiante, teniendo dicha segunda sección una segunda pluralidad de facetas reflectoras (35b) para dirigir dicha radiación sustancialmente paralela a una segunda dirección radiante, y teniendo preferiblemente dicha tercera sección una tercera pluralidad de facetas reflectoras (35c) para dirigir dicha radiación sustancialmente paralela a una tercera dirección radiante.
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