| 发明名称 |
Negativ arbeitende Photoresistzusammensetzung basierend auf Polyimid-Vorläufern |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69723140(T2) |
申请公布日期 |
2004.04.15 |
| 申请号 |
DE19976023140T |
申请日期 |
1997.03.17 |
| 申请人 |
ARCH SPECIALTY CHEMICALS,INC. |
发明人 |
HAGEN, SIGUARD GUENTER |
| 分类号 |
G03F7/004;C08K3/10;C08K5/09;C08K5/54;C08L79/08;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/037;G03F7/038;G03F7/075;G03F7/40;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/037 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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