| 发明名称 | 使用荧光分析仪的水处理控制系统 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种使用荧光分析仪的水处理控制系统，它利用荧光分析仪测定原水或处理水的相对荧光强度，利用由荧光分析仪的测定值，控制处理方法以降低三卤甲烷的生成能力。该使用荧光分析仪的水处理控制系统包括：向被处理水中注入注入剂的注入机构(4a)、测定被处理水相对荧光强度的荧光分析仪(7)、测定被处理水流量的流水流量计(6)、和根据荧光分析仪的测定值，求出降低三卤甲烷生成能力需要注入剂的注入率，利用该注入剂的注入率和流水流量计的流量，控制注入机构的控制装置(9)，其中，注入剂是活性炭、氯、臭氧、凝集剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1145590C | 申请公布日期 | 2004.04.14 |
| 申请号 | CN01143365.5 | 申请日期 | 2001.11.30 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 村山清一;黑川太;金子政雄;居安巨太郎;田口健二;久保贵惠;环省二郎;平本昭;林巧;海贺信好 |
| 分类号 | C02F9/04;G01N23/223;//(C02F9/04,1∶50,1∶28,1∶78,1∶52,1∶44) | 主分类号 | C02F9/04 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 孙敬国 |
| 主权项 | 1.一种使用荧光分析仪的水处理控制系统，其特征是包括以下部分，即：向被处理水中注入注入剂的注入机构、测定被处理水相对荧光强度的荧光分析仪、测定被处理水流量的流水流量计、和根据荧光分析仪的测定值，求出降低三卤甲烷生成能力需要注入剂的注入率，利用该注入剂的注入率和流水流量计的流量，控制注入机构的控制装置，其中，注入剂是活性炭、氯、臭氧、凝集剂。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||