| 发明名称 | 制造低双折射塑料膜和片的装置 | ||
| 摘要 | 一种利用连续挤压工艺制造适用于光学介质应用的低双折射、低应力并且具有至少一个抛光表面的热塑性膜(21)、以及适用于非光学应用的低应力膜的装置。该装置由压延辊组(14，16)中的新颖压延辊(14)组成，其中至少一个辊(14)由钢内壳(30)、所述钢内壳(30)上的弹性覆层(28)和至少两层(36，34，32)的多层金属辊套外覆层(26)构成。金属辊套优选由三层(36，34，32)构成。多层外辊套(26)的内层(36)优选是镍，中间层(34)优选是铜并且外层(32)是具有高抛光表面的铬。由该工艺得到的膜具有小于约100nm的延迟值(双折射乘以厚度)和小于约4微英寸的表面粗糙度。该工艺是用于制造所述膜或片的连续挤压工艺并且不需要任何进一步的精加工操作。 | ||
| 申请公布号 | CN1489520A | 申请公布日期 | 2004.04.14 |
| 申请号 | CN01822674.4 | 申请日期 | 2001.11.13 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | R·A·伯恩;D·J·科伊尔;K·L·利利;R·J·小莫罗;B·S·申克;R·W·维尔德曼 |
| 分类号 | B29C59/04;B29C43/46 | 主分类号 | B29C59/04 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;马崇德 |
| 主权项 | 1.一种低双折射和低应力的透明或半透明热塑性膜，该膜的至少一个表面被高度抛光，该膜适用于光学介质应用并且该膜具有小于约100nm的延迟值，并且其中高度抛光的表面具有小于约4微英寸的粗糙度。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||