| 主权项 |
1.一种光记录媒体之结构,其系于基板之一面上至少依序涂覆有记录层、反射层;其特征系在于:基板之另一面上系设有可供读取讯号之雷射光穿透之披覆层者。2.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中该披覆层的厚度约介于100埃到100000埃之间。3.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中该披覆层之材质系可为ZnS-SiO2.硫化锌、二氧化矽、氮化矽、氧化铝、二氧化二钽、氮化铝、氮化硼、氮化钛、碳、碳化矽、碳化钛、碳化钽、碳化钨、硼化锆、二矽化钼等所构成之集合。4.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中基板的折射指数与披覆层的折射指数之间的差异,系落在-0.2到+0.2的范围内。5.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中该披覆层系可以溅镀法、电子回旋共振式、电浆辅助化学气相沈积法或溶胶凝胶法等方法制成。6.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中该披覆层系可以是混合薄膜、多层薄膜、复合薄膜或其阴阳离子可不为整数比。7.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中该披覆层之层数或材质之选用,系可根据其热膨胀、界面性质、热传导、制程或讯号传导等需要而作调整。8.如申请专利范围第1项所述之光记录媒体之结构,其中该光记录媒体系为唯读型音乐CD、CD-ROM、Video-CD、CD-I、DVD-Video、DVD-ROM、单次可录式CD-R、WORM、DVD-RAM、可抹写型CD-RW(可重复读写式光碟)、MO(磁光碟机)、MD(迷你光碟)和DVD-RW等。图式简单说明:第一图系为本创作之结构剖视图。第二图系为习知光记录媒体之结构剖视图。第三图系为公告第411436号之结构剖视图。 |
