发明名称 显示装置及其制造方法
摘要 本发明系提供一种显示装置及其制造方法,系于形成在主动矩阵显示装置之平坦化膜上设置局部不同之厚度,以改善面板构造。显示装置系包含有介以特定间隙相互接合的一对基板1、2与液晶3之面板构造;且在一侧基板1上形成有薄膜电晶体集合4、覆盖薄膜电晶体集合的平坦化膜5与配置于该平坦化膜5上的像素电极集合;而在另一侧基板2上形成相对于像素电极集合的相向电极。平坦化膜5包含感光性材料,系以经由曝光处理在基板1内具有不同厚度之方式形成。亦即,就每个像素电极分配不同的显示色,而平坦化膜5系以因应分配于各像素电极的显示色波长,使对应于各像素电极部分的厚度不同之方式形成。此外,基板1包括有:由像素电极与驱动该像素电极的薄膜电晶体所构成的像素阵列部;以及为了驱动像素阵列部而以薄膜电晶体所构成的驱动电路部。此时,平坦化膜在像素阵列部与驱动电路部处的厚度亦可为不同。
申请公布号 TW583419 申请公布日期 2004.04.11
申请号 TW091101655 申请日期 2002.01.31
申请人 新力股份有限公司 发明人 田中 勉
分类号 G02F1/00 主分类号 G02F1/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种显示装置,其系具有包含介以特定间隙相互接合的一对基板与保持于该间隙的电性光学物质之面板构造,在一侧基板上形成有薄膜电晶体集合、覆盖该薄膜电晶体集合的平坦化膜、与配置于该平坦化膜上的像素电极集合,在另一侧基板上形成有与像素电极集合相对之相向电极者,其特征在于:上述平坦化膜系由感光性材料构成,并以藉由曝光处理在该一侧基板内具有不同厚度之方式形成。2.如申请专利范围第1项之显示装置,其中上述一侧基板系包含:由像素电极与驱动该像素电极之薄膜电晶体构成的像素阵列部;以及为了驱动该像素阵列部而以薄膜电晶体构成的驱动电路部;上述平坦化膜系从像素阵列部以至周边的驱动电路部形成,且该像素阵列部与该驱动电路部上之膜厚不同。3.如申请专利范围第1项之显示装置,其中在上述平坦化膜系具有以在表面产生凹凸之方式,使厚度相异之区域,该像素电极由反射膜构成,并配置于该凹凸所产生的区域。4.如申请专利范围第1项之显示装置,其中在各像素电极系被分配不同的显示色,且上述平坦化膜系因应分配于各像素电极上的显示色波长,使对应于各像素电极之部分的厚度不同之方式形成。5.一种显示装置的制造方法,该显示装置具备有介以特定间隙相互接合的一对基板与由保持于该间隙的电性光学物质所构成之面板构造者,且包含有以下步骤:在一侧基板上形成薄膜电晶体集合、覆盖薄膜电晶体集合的平坦化膜与配置于该平坦化膜上的像素电极集合,以及在另一侧基板上形成与像素电极集合相对之相向电极之步骤;形成该平坦化膜的步骤系使包含感光性材料的平坦化膜涂布于该一侧基板上之涂布步骤;在曝光量的平面分布被赋与变化的状态下进行该平坦化膜的感光处理之曝光步骤;蚀刻所感光之平坦化膜表面,因应该曝光量的平面分布使该平坦化膜的厚度加工成不同状态之加工步骤。6.如申请专利范围第5项之显示装置的制造方法,其中上述曝光步骤系经由在透过率的平面分布具有变化之遮罩,使光照射于该平坦化膜而进行曝光处理。7.如申请专利范围第6项之显示装置的制造方法,其中上述曝光步骤系为了照射特定能量的光而使用不同的遮罩以进行复数次感光处理。8.如申请专利范围第6项之显示装置的制造方法,其中上述曝光步骤为了以相同遮罩照射不同能量的光,而使用设有使特定部分成为不同能量的滤光片之遮罩。9.如申请专利范围第8项之显示装置的制造方法,其中上述曝光步骤系使用可绕射光的图案作为该滤光片。10.如申请专利范围第8项之显示装置的制造方法,其中上述曝光步骤系使用藉由具有不同透过率之二种以上的遮光物质所形成之滤光片作为该滤光片。11.如申请专利范围第8项之显示装置的制造方法,其中上述曝光步骤系使用具有1%至50%透过率的滤光片之遮罩。12.如申请专利范围第5项之显示装置的制造方法,其中在上述一侧基板形成有:由像素电极与驱动该像素电极的薄膜电晶体所构成的像素阵列部;以及为了驱动该像素阵列部而以薄膜电晶体构成的驱动电路部;上述平坦化膜系从该像素阵列部以至周边的驱动电路部形成,且该像素阵列部与该驱动电路部上之膜厚不同。13.如申请专利范围第5项之显示装置的制造方法,其中在上述平坦化膜具有以在表面产生凹凸之方式,使厚度相异之区域,且该像素电极由反射膜构成,并配置于该凹凸所产生的区域。14.如申请专利范围第5项之显示装置的制造方法,其中在各像素电极上系被分配不同的显示色,上述平坦化膜系因应分配于各像素电极上的显示色波长,使各像素电极部分的厚度不同之方式形成。15.一种行动电话终端装置,系一体组装有:进行有关传送与接收的操作之操作部、可依该操作通话的通话部与至少可显示有关该操作的资讯之显示部,其特征在该装置具备有:上述显示部系具有由介以特定间隙相互接合的一对基板与保持于该间隙的电性光学物质所构成之面板构造;在一侧基板上形成有薄膜电晶体集合、覆盖该薄膜电晶体集合的平坦化膜与配置于该平坦化膜上的像素电极集合;在另一侧基板上形成相对于像素电极集合的相向电极;上述平坦化膜系由感光性材料构成,并藉由曝光处理以在一侧基板内具有不同厚度之方式形成。16.如申请专利范围第15项之行动电话终端装置,其中上述一侧基板系包括:由像素电极与用以驱动该像素电极的薄膜电晶体所构成的像素阵列部;以及为了驱动该像素阵列部而利用薄膜电晶体构成的驱动电路部;上述平坦化膜之形成范围系由像素阵列部至周边的驱动电路部,且该像素阵列部与该驱动电路部上的膜厚为不同。17.如申请专利范围第15项之行动电话终端装置,其中上述平坦化膜系具有以在表面产生凹凸之方式,使厚度相异之区域,该像素电极由反射膜构成,并配置于该凹凸所产生的区域。18.如申请专利范围第15项之行动电话终端装置,其中在各像素电极上系被分配不同的显示色,且上述平坦化膜系因应分配于各像素电极上的显示色波长,以使对应于各像素电极之部分厚度不同之方式形成。19.一种行动资讯终端装置,系一体组装有:输入命令之操作部、依据命令处理资讯的处理部、及显示所处理的资讯之显示部,其特征在该装置具备有:上述显示部具有由介以特定间隙相互接合的一对基板与保持于该间隙的电性光学物质所构成的面板构造;在一侧基板上形成有薄膜电晶体集合、覆盖该薄膜电晶体集合的平坦化膜与配置于该平坦化膜上的像素电极集合,在另一侧基板上形成相对于像素电极集合的相向电极;上述平坦化膜系由感光性材料构成,并藉由曝光处理以在一侧基板内具有不同厚度之方式形成。20.如申请专利范围第19项之行动资讯终端装置,其中上述一侧基板系包括:由像素电极与驱动该像素电极的薄膜电晶体所构成的像素阵列部;以及为了驱动该像素阵列部而以薄膜电晶体构成的驱动电路部;上述平坦化膜系从像素阵列部以至周边的驱动电路部形成,且该像素阵列部与该驱动电路部上之膜厚不同。21.如申请专利范围第19项之行动资讯终端装置,其中上述平坦化膜系具有以在表面产生凹凸之方式,使厚度相异的区域,且该像素电极由反射膜构成,并配置于该凹凸所产生的区域。22.如申请专利范围第19项之行动资讯终端装置,其中在各像素电极系被分配不同的显示色,且上述平坦化膜系因应分配于各像素电极上的显示色波长,使对应于各像素电极之部分的厚度不同之方式形成。图式简单说明:图1系显示装置参考例之模式部分剖视图。图2系本发明显示装置第一实施形态之剖视图。图3系曝光时间与平坦化膜侵蚀量的关系图表。图4系显示装置的参考例之部分剖视图。图5系显示装置的参考例之部分剖视图。图6系显示装置第二实施形态之模式部分剖视图。图7系显示装置的参考例之部分剖视图。图8系本发明显示装置的第三实施形态之模式图。图9系本发明行动电话终端装置之例之模式平面图。图10系本发明行动电话终端装置之例的模式斜视图。
地址 日本