| 主权项 |
1.一种形成导电性图案之方法,包含有以下程序,即:(1a)于基材上涂覆含有导电性粉末之正型感能线性糊组成物并使其乾燥,以形成正型感能线性涂膜;(2a)令活性能量线或热线透过光罩,或不透过光罩而直接照射于该涂膜上,以制得所需之图案;及(3a)接着,使照射部之涂膜藉显影处理去除,以形成导电性图案涂膜。2.如申请专利范围第1项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型可见光感光性糊组成物。3.如申请专利范围第1项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型紫外线感光性糊组成物。4.如申请专利范围第1项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型感热性糊组成物。5.如申请专利范围第1项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物更含有可藉热而熔合之无机粉末,且于程序(3a)后进行焙烧。6.如申请专利范围第5项之形成导电性图案之方法,其中前述可藉热而熔合之无机粉末系烧结玻料。7.一种形成导电性图案之方法,包含有以下程序,即:(1b)于脱模性膜表面上涂覆含有导电性粉末之正型感能线性糊组成物并使其乾燥,以制得具有正型感能线性涂膜之乾膜;(2b)于基材上重叠前述膜使其与正型感能线性涂膜面接触而形成正型感能线性涂膜,再剥离脱模性膜;(3b)令活性能量线或热线透过光罩,或不透过光罩而直接照射于该涂膜上,以制得所需之图案;及(4b)接着,使照射部之涂膜藉显影处理去除,以形成导电性图案涂膜。8.如申请专利范围第7项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型可见光感光性糊组成物。9.如申请专利范围第7项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型紫外线感光性糊组成物。10.如申请专利范围第7项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型感热性糊组成物。11.如申请专利范围第7项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物更含有可因热而熔合之无机粉末,且于程序(4b)后进行焙烧。12.如申请专利范围第11项之形成导电性图案之方法,其中前述可藉热而熔合之无机粉末系烧结玻料。13.一种形成导电性图案之方法,包含有以下程序,即:(1c)于脱模性膜表面上涂覆含有导电性粉末之正型感能线性糊组成物并使其乾燥,以制得具有正型感能线性涂膜之乾膜;(2c)于基材上重叠前述膜使其与正型感能线性涂膜面接触而形成正型感能线性涂膜;(3c)令活性能量线或热线透过光罩或不透过光罩直接穿过脱模性膜而照射于该涂膜上;及(4c)接着,将脱模性膜剥离后,使照射部之涂膜藉显影处理去除,以形成导电性图案涂膜。14.如申请专利范围第13项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型可见光感光性糊组成物。15.如申请专利范围第13项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型紫外线感光性糊组成物。16.如申请专利范围第13项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物系正型感热性糊组成物。17.如申请专利范围第13项之形成导电性图案之方法,其中前述正型感能线性糊组成物更含有可因热而熔合之无机粉末,且于程序(4c)后进行焙烧。18.如申请专利范围第17项之形成导电性图案之方法,其中前述可藉热而熔合之无机粉末系烧结玻料。图式简单说明:第1图系藉本发明之形成导电性图案之方法所得之图案涂膜之模式截面图。第2图系以习知之形成导电性图案之方法所得之图案涂膜之模式截面图。 |
