发明名称 扩散反射板,用于该扩散反射板的制造之转移原模、转移基膜、转移膜,及扩散反射板之制造方法
摘要 本发明系有关一种扩散反射板,该可将光扩散反射之扩散反射板,为在相对于扩散反射板基材表面由垂直面(a)与斜面(b)构成之锯齿状横切面上,该垂直面(a)与倾斜面(b)连续重复形成锯齿状,倾斜面(b)相对于基材表面之倾斜角为2至30度,垂直面(a)相对于基材表面之倾斜角为75至105度,与该锯齿状横切面呈垂直之倾斜面(b)之横切面形成有振幅之波形而具有连续之凹凸面者。
申请公布号 TW583465 申请公布日期 2004.04.11
申请号 TW091133228 申请日期 2002.11.13
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 鹤冈恭生;木泽桂子;崎俊胜;伴野秀邦;岩室光则;田井诚司;津田义博;吉田健
分类号 G02F1/1335 主分类号 G02F1/1335
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路八十号六楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路八十号六楼
主权项 1.一种扩散反射板,其特征为在可以使光扩散反射之扩散反射板中,该扩散反射板系由基材、在其表面形成之薄膜层、以及反射层所构成,与基材表面垂直之方向之薄膜层横切面,为连续重复之垂直面(a)及倾斜面(b)所构成之锯齿状,相对于基材表面之垂直面(a)的倾斜角为75至105度,相对于基材表面倾之倾斜面(b)的倾斜角为2至30度,与该锯齿状横切面垂直并与基材表面垂直之倾斜面(b)之横切面呈具有振幅之波形而具有连续之凹凸面。2.如申请专利范围第1项之扩散反射板,其中与锯齿状横切面垂直之倾斜面(b)之横切面之波形为正弦波者。3.如申请专利范围第1项之扩散反射板,其中与锯齿状横切面垂直之倾斜面(b)之横切面波形之振幅非一定者。4.如申请专利范围第1项之扩散反射板,其中与锯齿状横切面垂直之倾斜面(b)之横切面波形之波长非一定者。5.如申请专利范围第1项之扩散反射板,其中垂直面(a)之配置间隔为2m以上150m以下者。6.如申请专利范围第1项之扩散反射板,其中所有锯齿状横切面中垂直方向之最大高度与最低高度之差(即凹凸面之最大落差)在6m以下者。7.如申请专利范围第1项之扩散反射板,其中垂直面(a)之配置间隔非为一定间隔者。8.如申请专利范围第1项至第7项中任一项之扩散反射板,其中垂直面(a)与倾斜面(b)系经过表面粗化处理者。9.一种转移原模,系已形成申请专利范围第1项之扩散反射板之凹凸面者。10.一种转移原模,系用来形成申请专利范围第9项之转移原模之凹凸面者。11.一种转移基膜,系使用申请专利范围第9项或第10项之转移原模,将转移原模压印于被转移层而转移其形状者。12.一种转移膜,系使用申请专利范围第11项之转移基膜作为暂时支撑体,而于暂时支撑体之转移自转移原模之面上形成薄膜层,薄膜层之未形成于暂时支撑体上之面则形成与被转移基板之接着面者。13.一种转移膜,系在申请专利范围第12项之转移膜中暂时支持体与薄膜层之间形成有反射膜者。14.一种扩散反射板之制造方法,系以使申请专利范围第12项之转移膜以薄膜层为接面紧压于被转移基材上之工程、将前述暂时支撑体剥离之工程、以及在薄膜层被转移之表面上形成反射膜之工程制作扩散反射板者。15.一种扩散反射板之制造方法,系以使申请专利范围第11项之转移基膜以其转移形成的面为接面紧压于基材上形成之薄膜层上之工程、将前述转移基膜剥离之工程、以及在表面上形成反射膜之工程制作扩散反射板者。16.一种扩散反射板之制造方法,系包含使申请专利范围第13项之转移膜以薄膜层为接面紧压于被转移基材上之工程、以及将前述暂时支撑体剥离之工程者。17.一种扩散反射板,系由申请专利范围第14项至第16项中任一项之扩散反射板之制造方法所制成者。18.一种扩散反射板,系在申请专利范围第11项之转移基膜之转移自转移原模的面上设有反射膜者。19.一种扩散反射板,其特征为将申请专利范围第1项之扩散反射板使用在反射型液晶显示器中者。20.一种扩散反射板,其特征为以在相对于申请专利范围第1项之扩散反射板之基材表面之垂直面(a)及倾斜面(b)所构成之锯齿状横切面中,因与该表面之脊顶或沟底的线平行之倾斜而产生之高低落差之大者面向显示画面之大略下方之方式使用在反射型液晶显示器中者。21.一种扩散反射板,其特征为在使光扩散反射之扩散反射板中,该扩散反射板系由基材、以及在其表面上形成之薄膜层及反射层所构成,其与基材表面垂直之方向之薄膜层横切面,为连续重复之垂直面(a)及倾斜面(b)所构成之锯齿状,相对于基材表面之垂直面(a)之倾斜角为75至105度,倾斜面(b)至少含有相对于基材表面为相异之2种倾斜角群,其一倾斜角群为0至20度,另一倾斜角群为10至30度,与该锯齿状横切面垂直并与基材表面垂直之倾斜面(b)之横切面呈具有振幅之波形而具有连续之凹凸面。22.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中与该锯齿状横切面垂直之倾斜面(b)之横切面之波形为正弦波者。23.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中倾斜面(b)之锯齿状横切面形状之全部或部份为曲线者。24.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中倾斜面(b)之锯齿状横切面形状之2种以上相异倾斜之长度非一定者。25.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中与锯齿状横切面垂直之倾斜面(b)之横切面波形之振幅非一定者。26.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中与锯齿状横切面垂直之倾斜面(b)之横切面波形之波长非一定者。27.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中垂直面(a)之配置间隔为2m以上150m以下者。28.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中所有锯齿状横切面中垂直方向之最大高度与最低高度之差(即凹凸面之最大落差)在6m以下者。29.如申请专利范围第21项之扩散反射板,其中垂直面(a)之配置间隔非为一定间隔者。30.如申请专利范围第21项至第29项中任一项之扩散反射板,其中垂直面(a)与倾斜面(b)系经过表面粗化处理。31.一种转移原模,系已形成申请专利范围第21项之扩散反射板之凹凸面者。32.一种转移原模,系用来形成申请专利范围第31项之转移原模之凹凸面者。33.一种转移基膜,系使用申请专利范围第31项或第32项之转移原模,将转移原模压印于被转移层而转移其形状者。34.一种转移膜,系使用申请专利范围第33项之转移基膜作为暂时支撑体,而于暂时支撑体之转移自转移原模之面上形成薄膜层,薄膜层之未形成于暂时支撑体上之面则形成与被转移基板之接着面者。35.一种转移膜,系在申请专利范围第34项之转移膜中暂时支持体与薄膜层之间形成有反射膜者。36.一种扩散反射板之制造方法,系以使申请专利范围第34项之转移膜以薄膜层为接面紧压于被转移基材上之工程、将前述暂时支撑体剥离之工程、以及在薄膜层被转移之表面上形成反射膜之工程制作扩散反射板者。37.一种扩散反射板之制造方法,系以使申请专利范围第33项之转移基膜以其转移形成的面为接面紧压于在基材上形成之薄膜层上之工程、将前述转移基膜剥离之工程、以及在表面形成反射膜之工程制作扩散反射板者。38.一种扩散反射板之制造方法,系包含使申请专利范围第35项之转移膜以薄膜层为接面紧压于被转移基材上之工程、以及将前述暂时支撑体剥离之工程者。39.一种扩散反射板,系由申请专利范围第36项至第38项中任一项之扩散反射板之制造方法所制成者。40.一种扩散反射板,系在申请专利范围第33项之转移基膜之转移自转移原模之面上设有反射膜者。41.一种扩散反射板,其特征为将申请专利范围第21项之扩散反射板使用在反射型液晶显示器中者。42.一种扩散反射板,其特征为在申请专利范围第21项之扩散反射板中,以在相对于基材表面之垂直面(a)及倾斜面(b)所构成之锯齿状横切面中,因与该表面之脊顶或沟底的线平行之倾斜而产生之高低落差之大者面向显示画面之大略下方之方式使用在反射型液晶显示器中者。43.一种反射型液晶显示器,其特征为使用申请专利范围第1项之扩散反射板者。44.一种反射型液晶显示器,其特征为使用申请专利范围第21项之扩散反射板者。图式简单说明:第1图所示之断面图,为本发明第1样态中转移原模制造工程之一例。第2图所示之断面图,为本发明第1样态中转移膜之一例。第3图所示之断面图,为本发明第1样态中扩散反射板之一例。第4图所示之断面图,为制造本发明扩散反射板之例。第5图所示之断面图,为反射型LCD之一例。第6图所示之斜视图,为扩散反射板反射特性之测定装置。第7图所示之斜视图,为本发明第1样态中扩散反射板之凹凸面形状之一例。第8图所示之断面图,为本发明扩散反射板凹凸面上倾斜面(b)之波状之例。第9图所示之断面图,为实施例1扩散反射板凹凸面上倾斜面(b)与垂直面(a)交替排列之形状。第10图所示之斜视图,为实施例1扩散反射板凹凸面之形状。第11图所示之图,为实施例1扩散反射板反射强度对反射角度之依存性。第12图所示之断面图,为本发明第2样态中转移原模制造工程之一例。第13图所示之断面图,为本发明第2样态中转移膜之一例。第14图所示之断面图,为本发明第2样态中扩散反射板之一例。第15图所示之斜视图,为本发明第2样态中扩散反射板之凹凸面形状之一例。第16图所示之断面图,为本发明第2样态中扩散反射板凹凸面上倾斜面(b)及垂直面(a)交替排列形状之例。第17图所示之断面图,为实施例5扩散反射板凹凸面上倾斜面(b)及垂直面(a)交替排列之形状。第18图所示之斜视图,为实施例5扩散反射板凹凸面之形状。第19图所示之图,为实施例5扩散反射板反射强度对反射角度之依存性。
地址 日本