| 主权项 |
1.一种下式(1)唑衍生物, 其中R1及R2各自分别表示氢原子或一价有机基,或R1 及R2与R1及R2键结之碳原子共同形成一个具有3-8员 碳环系结构或3-8员杂环系结构之二价有机基,以及 R3表示氢原子或一价有机基。2.如申请专利范围第 1项之唑衍生物,其中式(1)中R1及R2表示之一价有 机基为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、 正丁基、2-甲基丙基、1-甲基丙基、第三丁基、苯 基或基,或R1.R2以及R1及R2键结之碳原子共同形成 具有环脂族环之二价有机基,其系衍生自环己烷。 3.如申请专利范围第1项之唑衍生物,其中式(1)R3 表示之一价有机基为氢原子、甲基、乙基、正丙 基、正丁基、2-甲基丙基、或苯基,或可酸解离有 机基,其系选自异丙基、1-甲基丙基、第三丁基、 环己基、基、第三丁氧羰基甲基、1-甲氧乙基 、1-乙氧乙基、三甲基矽烷基、第三丁氧羰基、 四氢喃基、四氢喃基、四氢硫喃基及四氢 硫喃基组成的组群。4.如申请专利范围第1项之 唑衍生物,其中式(1)R3为异丙基、第三丁基、环 己基或基。5.如申请专利范围第1项之唑衍生 物,其中式(1)R1及R2为氢原子。6.如申请专利范围第 1项之唑衍生物,其中式(1)R3为可酸解离有机基。 7.一种正型放射线敏感性树脂组成物,包含:(A)0.1至 40份重量比之申请专利范围第1项之唑衍生物,(B) 100份重量比之含酸可解离基之树脂,其不溶于或几 乎不溶于硷,但当酸可解离基解离时变成硷可溶, 以及(C)0.1至20份重量比之光酸产生剂。8.如申请专 利范围第7项之化学放大型放射线敏感性树脂组成 物,其中该含酸可解离基之树脂(B)为一种得自聚( 对羟苯乙烯)、对羟苯乙烯与对羟--甲基苯乙烯 之共聚物、对羟苯乙烯与苯乙烯之共聚物、或对 羟苯乙烯及/或对羟--甲基苯乙烯与(甲基)丙烯 酸之共聚物之树脂,其系经由使用酸可解离基置换 酚系羟基之部分或全部氢原子或羧基之氢原子获 得。9.如申请专利范围第7项之化学放大型放射线 敏感性树脂组成物,其中该酸可解离基为经取代之 甲基、1-经取代之乙基、1-分支烷基、矽烷基、锗 烷基、烷氧羰基、醯基或环状可酸分解基。10.如 申请专利范围第7项之化学放大型放射线敏感性树 脂组成物,其中该光酸产生剂(C)为至少一种选自 盐化合物、化合物、磺酸盐化合物、磺醯亚胺 化合物、二磺醯基重氮甲烷化合物、二磺醯基甲 烷化合物、磺酸盐化合物及磺酸盐化合物组 成的组群之化合物。11.如申请专利范围第7项之化 学放大型放射线敏感性树脂组成物,其进一步包含 一种酸扩散控制剂。12.如申请专利范围第11项之 化学放大型放射线敏感性树脂组成物,其中该酸扩 散控制剂为一种含氮有机化合物。图式简单说明: 图1为于合成例2制备之唑衍生物(1)之IR吸收光谱 。 图2为于合成例2制备之唑衍生物(1)之1H-NMR光谱 。 图3为于合成例2制备之唑衍生物(1)之紫外光吸 收光谱。 |
