发明名称 PHOTO-STRUCTURABLE ION-SENSITIVE LITHIUM ALUMOSILICATE GLASS
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein fotostrukturierbares innensensitives Lithiumalumosilikatglas. Das erfindungsgemässe Glas bietet den besonderen Vorteil, dass aufgrund der neuartigen Glaszusammensetzung die Fotostrukturierbarkeit, die Innensensitivität und die Innenselektivität in für eine technische Anwendung ausreichender Qualität realisierbar sind. Das Glas besteht hauptsächlich aus Siliziumdioxid (SiO2) und Lithiumoxid (Li2O). Weiterhin enthält das Grundglas in geringeren Bestandteilen Aluminiumoxid (A12O3) sowie Natriumoxid (Na2O) und/oder Kaliumoxid (K2O). Schliesslich umfasst das Glas noch geringe Anteile von Cerium (IV) -oxid (CeO2), Silber (I) -oxid (Ag2O), Antimontrioxid (Sb2O3) und Zinnmonoxid (SnO). Das neuartige Glas ist für den Einsatz in der Mikrofluidiktechnik, z.B. als Innensensor und dabei insbesondere als innensensitive Membran vorgesehen.</p>
申请公布号 WO2004028991(A1) 申请公布日期 2004.04.08
申请号 WO2003EP10385 申请日期 2003.09.18
申请人 TECHNISCHE UNIVERSITAET ILMENAU;HUELSENBERG, DAGMAR;HARNISCH, ALF;HECHT-MIJIC, STEPHAN;STIEBERT, DIETMAR;KADEN, HEINER;HERRMANN, SIGRUN;MICHELSEN, CARL-ERNST 发明人 HUELSENBERG, DAGMAR;HARNISCH, ALF;HECHT-MIJIC, STEPHAN;STIEBERT, DIETMAR;KADEN, HEINER;HERRMANN, SIGRUN;MICHELSEN, CARL-ERNST
分类号 C03C3/095;C03C4/04;C03C4/18;(IPC1-7):C03C3/095 主分类号 C03C3/095
代理机构 代理人
主权项
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