| 发明名称 |
Photolithography mask repair |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003299002(A8) |
申请公布日期 |
2004.04.08 |
| 申请号 |
AU20030299002 |
申请日期 |
2003.09.18 |
| 申请人 |
FEI COMPANY |
发明人 |
JOHN BEATY;STEVEN BERGER;DIANE K. STEWART;CHRISTIAN R. MUSIL;J. DAVID CASEY JR. |
| 分类号 |
A61N5/00;C23C14/00;G03F1/00;G03F9/00;G06K;G06K9/00;G21G5/00;H01J37/00;H01L21/027;(IPC1-7):G21G5/00 |
主分类号 |
A61N5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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