| 发明名称 |
PROCESS CHAMBER WITH A BASE WITH SECTIONALLY DIFFERENT ROTATIONAL DRIVE AND LAYER DEPOSITION METHOD IN SUCH A PROCESS CHAMBER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1404903(A1) |
申请公布日期 |
2004.04.07 |
| 申请号 |
EP20020751008 |
申请日期 |
2002.06.10 |
| 申请人 |
AIXTRON AG |
发明人 |
SCHWAMBERA, MARKUS;FRANKEN, WALTER;STRAUCH, GERD |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C30B25/02;C30B25/12;C30B25/14;(IPC1-7):C30B25/12 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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