发明名称 |
具有气泡消除装置的监测系统 |
摘要 |
一种具有气泡消除装置的监测系统,该监测系统包括输送装置、气泡消除装置、流量计装置及控制装置。利用控制装置控制气泡消除装置的操作,以排除来自输送装置中研浆的气泡,使监测系统的研浆流速趋于稳定。并进一步利用具有稳定流速的研浆,有效维持研浆中研磨剂的混合比例,而大幅降低混合比例的变动量。 |
申请公布号 |
CN1487576A |
申请公布日期 |
2004.04.07 |
申请号 |
CN03106005.6 |
申请日期 |
2003.02.14 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
陈炳旭;张肇荣;罗冠腾;彭进兴;鲁建国 |
分类号 |
H01L21/66;H01L21/304;B24B57/00 |
主分类号 |
H01L21/66 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐金国;陈红 |
主权项 |
1、一种消除气泡的监测系统,用于半导体研磨工艺中,该监测系统至少包含:一输送装置,用以输送研浆;一气泡消除装置,连接于该输送装置,以接收该研浆,该气泡消除装置具有第一传感器及第一阀门,其中该第一传感器位于该第一阀门的侧边,该第一阀门位于该气泡消除装置的上端部,借由该第一传感器侦测该研浆的气泡,以利于该第一阀门排出该气泡;一流量计装置,连接于该气泡消除装置,用于量测来自该气泡消除装置的该研浆的流量,并且利用该流量计装置输送消除该气泡的该研浆至研磨装置中;以及一中央控制装置,分别耦合于该输送装置、该气泡消除装置及该流量计装置,该中央控制装置控制该输送装置的该研浆输送,利用该气泡消除装置的该第一传感器,以实时排除该研浆的该气泡。 |
地址 |
中国台湾 |