发明名称 具有气泡消除装置的监测系统
摘要 一种具有气泡消除装置的监测系统,该监测系统包括输送装置、气泡消除装置、流量计装置及控制装置。利用控制装置控制气泡消除装置的操作,以排除来自输送装置中研浆的气泡,使监测系统的研浆流速趋于稳定。并进一步利用具有稳定流速的研浆,有效维持研浆中研磨剂的混合比例,而大幅降低混合比例的变动量。
申请公布号 CN1487576A 申请公布日期 2004.04.07
申请号 CN03106005.6 申请日期 2003.02.14
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈炳旭;张肇荣;罗冠腾;彭进兴;鲁建国
分类号 H01L21/66;H01L21/304;B24B57/00 主分类号 H01L21/66
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 徐金国;陈红
主权项 1、一种消除气泡的监测系统,用于半导体研磨工艺中,该监测系统至少包含:一输送装置,用以输送研浆;一气泡消除装置,连接于该输送装置,以接收该研浆,该气泡消除装置具有第一传感器及第一阀门,其中该第一传感器位于该第一阀门的侧边,该第一阀门位于该气泡消除装置的上端部,借由该第一传感器侦测该研浆的气泡,以利于该第一阀门排出该气泡;一流量计装置,连接于该气泡消除装置,用于量测来自该气泡消除装置的该研浆的流量,并且利用该流量计装置输送消除该气泡的该研浆至研磨装置中;以及一中央控制装置,分别耦合于该输送装置、该气泡消除装置及该流量计装置,该中央控制装置控制该输送装置的该研浆输送,利用该气泡消除装置的该第一传感器,以实时排除该研浆的该气泡。
地址 中国台湾
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