| 发明名称 | 新型磁场旋转外圆柱靶 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及到一种磁控溅射真空镀膜机设备，特别是一种新型磁场旋转外圆柱靶。它由极靴(2)、永磁铁(3)、圆形靶管(5)和用非磁性材料制成的挡环(7)组成，极靴(2)上有用于安装永磁铁(3)的4条定位槽，永磁铁(3)安装在极靴(2)的定位槽内组成4路条形磁铁，挡环(7)安装在极靴(2)的两端，永磁铁(3)的组合方式是每路条形磁铁的朝向相同，即S极均朝内，N极均朝外。本实用新型由于采用如上设计，与现有技术相比，具有溅射区域面积大，溅射产额多，成膜速率高，靶利用率高，磁路简单，溅射均匀等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN2609940Y | 申请公布日期 | 2004.04.07 |
| 申请号 | CN02277300.2 | 申请日期 | 2002.09.18 |
| 申请人 | 衡阳市真空机电设备有限公司 | 发明人 | 李云程 |
| 分类号 | C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/35 |
| 代理机构 | 衡阳市科航专利事务所 | 代理人 | 刘国章 |
| 主权项 | 1、一种新型磁场旋转外圆柱靶，它包括极靴、永磁铁和圆形靶管环，极靴上有用于安装永磁铁的定位槽，永磁铁安装在极靴的定位槽内组成多路条形磁铁，其特征是还包括用非磁性材料制成的挡环，挡环安装在极靴的两端，永磁铁的组合方式是每路条形磁铁的极性朝向相同。 | ||
| 地址 | 421001湖南省衡阳市高新技术开发区金星路真空机电公司 | ||