| 摘要 |
一双层底部抗反射层(BottomAntireflectiveCoating；BARC)／硬遮罩结构，包括一非晶碳(AmorphousCarbon)层(18)，以及二个或二个以上相异且独立形成于该非晶碳层上诸如氧氮化矽(SiON)之电浆辅助化学气相沉积(PECVD)材料层(20a、20b)。透过独立的形成多层之PECVD材料，至少部分存在于最底层的PECVD层(20a)的针孔(32、34)由上层的PECVD层(20b)而封闭并因而不会延伸通过所有的PECVD层。结果该最上层的PECVD层(20b)之上表面具有较下层的PECVD层低之针孔密度。此架构减少非晶碳层(18)之参杂物对光阻材料之毒化，及由光阻材料清除化学物质腐蚀该非晶碳层。 |
