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发明名称
光学系统的调整方法及装置,及曝光装置
摘要
本发明系有关一种调整包含具有多层薄膜的多层镜面的光学系统的方法,包括的步骤为:量测该光学系统的波前像差、决定可移除在多层镜面内的部分多层薄膜的条件,以减少在量测步骤中量测得的波前像差,及依据该量测步骤所决定的条件来移除在多层镜面内的部分多层薄膜。
申请公布号
TW200405403
申请公布日期
2004.04.01
申请号
TW092120707
申请日期
2003.07.29
申请人
佳能股份有限公司
发明人
正木文太郎;三宅明
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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