以稠处理流体及超音波能量处理半导体元件的方法

摘要

用于在处理期间施加超音波能量，而在处理腔中以稠处理流体处理物件的方法。稠流体可于个别的加压容器中产生，并输送至处理腔，或者可直接产生于处理腔中。处理剂可添加至加压容器、处理腔，或者在稠流体由加压容器输送至处理腔期间添加至稠流体。超音波能量可以固定频率或变频方式连续地产生。或者，超音波能量可间歇地产生。