蚀刻液之再生制程、蚀刻制程、以及蚀刻系统

摘要

本发明系揭露一种含磷酸溶液之蚀刻液的再生制程，该蚀刻液已于一蚀刻槽中蚀刻氮化矽薄膜。由于蚀刻造成蚀刻液中含有矽化物，依据此含磷酸溶液之蚀刻液再生制程，将含矽化物之蚀刻液移出蚀刻槽，然后加水至该移出之蚀刻液中以降低其中磷酸浓度至80–50wt.％。降低磷酸浓度导致矽化物的沉淀，而该沉淀之矽化物则自蚀刻液中移除。一种利用该再生制程之蚀刻制程以及一种适于实施该再生制程与蚀刻制程之蚀刻系统也一并于本发明中揭露。