高深宽比/深蚀刻使用不连续之气体切换方法的侧壁平滑化

摘要

本发明系提供一种用以将气体输入电浆蚀刻／沈积交替腔室之改良方法，当沈积与蚀刻气体供应器于切换开关时，为使输入蚀刻／沈积交替腔室之压力脉冲最小化，于是使用质流控制器来提供相对固定的气体流。并提供气体旁路或气体排出管，使得当蚀刻／沈积交替腔室之一入口关闭时，得以提供质流控制器之气体流另一流出之路径。旁路或排出管的存在可使接收自质流控制器之气体压力维持于大体固定的程度。而气体压力脉冲的减少或最小化有助于增进蚀刻于位于蚀刻／沈积交替腔室内之矽基板上高深宽比特征图样之侧壁平滑度。