发明名称 FINFET半导体记忆体之字元及位元线排列
摘要 本发明系有关一种半导体记忆体,具有–复数个半导体物质制成之网状鳍状物(FIN),其被彼此分隔且其鳍状物纵向((FIN))彼此平行运行,复数个被形成于各鳍状物(FIN)之通道区域及电导掺杂接触区域(S/D),且该通道区域及该接触区域被前后交替排列于该鳍状物纵向((FIN));–复数个字线(WL),其彼此平行且被垂直该鳍状物纵向((FIN))排列,且当闸极因控制其该导电率而运行于复数个该通道区域时,该字线(WL)系被电子绝缘于该接触区域及该通道区域;–复数个储存层(14),被设计用于捕捉及发射电荷载子,至少该储存层(14)之一被各该通道区域及被指派至该通道区域之该字线(WL)间之绝缘层(16,18)包围之方式排列;及–复数个位元线(BL),––其被相对该字线纵向((WL))倾斜及相对该鳍状物纵向((FIN))倾斜排列,––各例中之该位元线(BL)系包含至少第一及第二位元线区段(22,24),––该第一位元线区段(22)之纵轴平行于第一位元线方向((BL1))运行,而该第二位元线区段(24)之纵轴平行于第二位元线方向((BL2))运行,该第二位元线方向((BL2))系对该第一位元线方向((BL1))以异于零度之角度被旋转;及––各该位元线(BL)系被电子连接至复数个该接触区域(S/D),不被连接至该位元线(BL)之接触区域(S/D),系被排列于被连接至该位元线(BL)之一之相同鳍状物(FIN)之两接触区域(S/D)之间。
申请公布号 TW200405557 申请公布日期 2004.04.01
申请号 TW092123327 申请日期 2003.08.25
申请人 亿恒科技股份公司 发明人 汤玛士 舒尔茨;法兰茨 赫夫曼;米夏埃尔 史派克特
分类号 H01L27/115 主分类号 H01L27/115
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 德国