发明名称 一种有机发光显示器的制作方法
摘要 本发明系揭露一有机发光显示器的制作方法,该方法系先于一基板表面形成一有机发光显示元件,该有机发光显示元件包含有一有机发光层以及一驱动电路设于该基板表面,接着再形成一护层结构覆盖于该有机发光显示元件以及该基板表面,其中该护层结构系由一有机/无机薄膜所构成,且后形成之部分该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例。伍、(一)、本案代表图为:第_2_图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:110 有机发光显示器 112 基板114 有机发光显示元件 116 护层结构
申请公布号 TW582186 申请公布日期 2004.04.01
申请号 TW092102074 申请日期 2003.01.29
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 苏志鸿;魏大钦
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人 许锺迪 台北县永和市福和路三八九号五楼
主权项 1.一种有机发光显示器(organic light emitting display)的制作方法,该方法包含有下列步骤:提供一基板(substrate);于该基板表面形成一有机发光显示元件(organiclight emitting display unit),该有机发光显示元件包含有一有机发光层;以及形成一护层结构(passivation structure),覆盖于该有机发光显示元件以及该基板表面;其中该护层结构系由一有机/无机薄膜(organic/inorganic film)所构成,且后形成之部分该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例。2.如申请专利范围第1项的方法,其中该方法系利用一化学气相沉积(CVD)制程来形成该护层结构。3.如申请专利范围第2项的方法,其中在进行该化学气相沉积制程时,将逐渐降低反应气体中之有机/无机比例,以使后形成之部分该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例。4.如申请专利范围第2项的方法,其中该化学气相沉积制程系为一电浆加强化学气相沉积(PECVD)制程。5.如申请专利范围第4项的方法,其中该化学气相沉积制程中系以三甲基氯矽甲烷(trimethylchlorosilane,TMCS)或六甲基二矽胺(hexamethyldisilazane,HMDS)作为反应气体,并配合一含氧电浆来进行该电浆增强化学气相沉积。6.如申请专利范围第1项的方法,其中该有机/无机薄膜系由一SiOxCyHz化合物、一SiNxCyHz化合物或是一SiOwNxCyHz化合物所构成。7.如申请专利范围第1项的方法,其中先形成之部份该有机/无机薄膜具有一较高之有机/无机比例,以增加该护层结构与该有机发光显示元件间之附着力。8.如申请专利范围第1项的方法,其中后形成之部份该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例,以提供一较佳之水气防护能力。9.如申请专利范围第1项的方法,其中该护层结构之厚度约为500至5000埃(angstrom)。10.如申请专利范围第1项的方法,其中该有机/无机薄膜之光穿透率约为40至90%。11.如申请专利范围第10项的方法,其中该有机发光显示元件产生之光线系向上穿过该有机/无机薄膜,以上板发光(top emission)之方式进行显示。12.一种有机发光显示器(organic light emittingdisplay)的制作方法,该方法包含有下列步骤:提供一基板(substrate);于该基板表面形成一有机发光显示元件(organiclight emitting display unit),该有机发光显示元件包含有一有机发光层;以及进行一物理气相沉积(physical vapor deposition)制程,以形成一护层结构(passivation structure)覆盖于该显示元件以及该基板表面;其中该护层结构系由一有机/无机薄膜(organic/inorganic film)所构成,且在进行该物理气相沉积时,将逐渐降低所生成之部分该有机/无机薄膜中之有机/无机比例(organic/inorganic ratio),以使后形成之部分该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例。13.如申请专利范围第12项的方法,其中该物理气相沉积制程系为一溅镀制程(sputtering process)。14.如申请专利范围第13项的方法,其中该溅镀制程中所使用之溅镀标靶系为一混合标靶(mix target),该混合标靶表面具有一无机材质以及一有机材质,以形成该有机/无机薄膜。15.如申请专利范围第14项的方法,其中在进行该溅镀制程时,将逐渐降低该混合标靶表面之有机/无机比例(organic/inorganic ratio),以使后形成之部分该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例。16.如申请专利范围第14项的方法,其中该混合标靶系由一矽氧化合物(silicon oxide)以及一铁弗龙(PTFE)所构成。17.如申请专利范围第12项的方法,其中该有机/无机薄膜系由一SiOxCyHz化合物、一SiNxCyHz化合物或是一SiOwNxCyHz化合物所构成。18.如申请专利范围第12项的方法,其中先形成之部份该有机/无机薄膜具有一较高之有机/无机比例,以增加该护层结构与该显示元件间之附着力。19.如申请专利范围第12项的方法,其中后形成之部份该有机/无机薄膜具有一较低之有机/无机比例,以提供一较佳之水气防护能力。20.如申请专利范围第12项的方法,其中该护层结构之厚度约为500至5000埃(angstrom)。21.如申请专利范围第12项的方法,其中该有机/无机薄膜之光穿透率约为40至90%。22.如申请专利范围第21项的方法,其中该有机发光显示元件产生之光线系向上穿过该有机/无机薄膜,以上板发光(top emission)之方式进行显示。图式简单说明:图一为习知封装保护结构的剖面示意图。图二为根据本发明较佳实施例之显示器剖面示意图。图三为图二中显示器之局部放大图。图四为一混合标靶的示意图。
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