| 摘要 |
图案形成用放射性敏感负型光阻剂组成物含有环氧树脂，放射性敏感阳离子性聚合引发剂以及溶解环氧树脂之溶剂，其特征在于该光阻剂组成物经由乾燥而形成一种光阻剂薄膜，其具有软化点落入30℃至120℃之范围，以及该环氧树脂系以式(1)表示：092123906p01.bmp(其中R^1表示衍生自具有k个活性氢原子(k表示1至100之整数)之有机化合物部分；n1、n2至nk各自表示0或1至100之整数；n1、n2至nk之和系落入1至100之范围；以及各个「A」彼此相同或相异，式(2)表示之氧基环己烷主链：092123906p02.bmp(其中X表示式(3)至(5)之任一个基团：092123906p03.bmp以及一分子环氧树脂含有至少两个式(3)表示之基团))。 |
