发明名称 卫浴用窑业制品及其污染防治处理方法
摘要 本发明系关于一种卫浴用窑业制品及其污染防治处理方法,系在卫浴用窑业制品之处理面上,形成该由污染防治处理剂之所组成之被覆膜,以便于对于该卫浴用窑业制品之处理面,施加着污染防治处理。此时,系采用该具备有所谓存在于处理面上之羟基以及藉由脱水反应或者脱氢反应之所结合之含矽官能基的处理剂,作为前述之污染防治处理剂。藉由前述之方法,而赋予卫浴用窑业制品,相当高之污染防治效果。
申请公布号 TW581750 申请公布日期 2004.04.01
申请号 TW089106035 申请日期 2000.03.31
申请人 尹耐斯股份有限公司 发明人 水野治幸;今井茂雄;三浦正嗣;山本圭介;西川武;宫本博幸;泰将;束田祥幸;异相一义;山本章造
分类号 C04B41/80 主分类号 C04B41/80
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路三段三四六号一一一二室;宿希成 台北市松山区南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种卫浴用窑业制品,系为在处理面上,形成由污染防治处理剂之所组成之被覆膜之卫浴用窑业制品,其特征为:前述之污染防治处理剂,系具备有含矽官能基,而该含矽官能基,系藉由与该存在于前述之处理面上之羟基呈脱水反应或者脱氢反应而进行着结合。2.如申请专利范围第1项之卫浴用窑业制品,其中在含矽官能基之间,系并无进行着结合。3.如申请专利范围第1或2项之卫浴用窑业制品,其中污染防治处理剂,系具备有该结合着含矽官能基之末端之氟化碳基。4.如申请专利范围第3项之卫浴用窑业制品,其中氟化碳基,系为-CnF2n+1(n为1≦n≦12之自然数。)。5.如申请专利范围第1或2项之卫浴用窑业制品,其中污染防治处理剂,系具备有该结合着含矽官能基之末端之氟化碳基,同时,还具备有该结合着前述之含矽官能基之末端之烷基,并且,该烷基系多于该氟化碳基。6.如申请专利范围第1或2项之卫浴用窑业制品,其中污染防治处理剂,系具备有该结合着含矽官能基之末端之氟化碳基,同时,还具备有该结合着前述之含矽官能基之末端之烷基,并且,该氟化碳基系多于该烷基。7.如申请专利范围第5项之卫浴用窑业制品,其中系藉由二甲基矽氧烷,而结合着含矽官能基和烷基。8.如申请专利范围第6项之卫浴用窑业制品,其中系藉由二甲基矽氧烷,而结合着含矽官能基和烷基。9.如申请专利范围第7项之卫浴用窑业制品,其中污染防治处理剂,系混合有第1剂和第2剂,而该第1剂系为含有全氟烷基之有机矽化合物和含有水解性基之甲基聚矽氧烷化合物之亲水性溶媒中之共水解物,并且,该第2剂系为有机聚矽氧烷和强酸之混合物。10.如申请专利范围第9项之卫浴用窑业制品,其中二甲基矽氧烷,系呈直链状地结合着含矽官能基和烷基。11.如申请专利范围第1项之卫浴用窑业制品,其中处理面,系为重复地进行着水润湿和乾燥之部分。12.一种卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,系为在卫浴用窑业制品之处理面上,形成由污染防治处理剂之所组成之被覆膜,并且,还对于该卫浴用窑业制品之处理面,施加着污染防治处理之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其特征为:前述之污染防治处理剂,系具备有含矽官能基,而该含矽官能基,系藉由与该存在于前述之处理面上之羟基呈脱水反应或者脱氢反应而进行着结合。13.如申请专利范围第12项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中在含矽官能基之间,系并无进行着结合。14.如申请专利范围第12或13项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中污染防治处理剂,系具备有该结合着含矽官能基之末端之氟化碳基。15.如申请专利范围第14项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中氟化碳基,系为-CnF2n+1(n为1≦n≦12之自然数。)16.如申请专利范围第12或13项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中污染防治处理剂,系具备有该结合着含矽官能基之末端之氟化碳基,同时,还具备有该结合着前述之含矽官能基之末端之烷基,并且,该烷基系多于该氟化碳基。17.如申请专利范围第12或13项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中污染防治处理剂,系具备有该结合着含矽官能基之末端之氟化碳基,同时,还具备有该结合着前述之含矽官能基之末端之烷基,并且,该氟化碳基系多于该烷基。18.如申请专利范围第16项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中系藉由二甲基矽氧烷,而结合着含矽官能基和烷基。19.如申请专利范围第17项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中系藉由二甲基矽氧烷,而结合着含矽官能基和烷基。20.如申请专利范围第18项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中污染防治处理剂,系混合有第1剂和第2剂,而该第1剂系为含有全氟烷基之有机矽化合物和含有水解性基之甲基聚矽氧烷化合物之亲水性溶媒中之共水解物,并且,该第2剂系为有机聚矽氧烷和强酸之混合物。21.如申请专利范围第20项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中二甲基矽氧烷,系呈直链状地结合着含矽官能基和烷基。22.如申请专利范围第12项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中处理面,系为已经被使用过的。23.如申请专利范围第22项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中系在处理面,进行着该用以再生羟基之前处理作业。24.如申请专利范围第12项之卫浴用窑业制品之污染防治处理方法,其中处理面,系为重复地进行着水润湿和乾燥之部分。图式简单说明:图1系为有关于试验例1之图式;图1(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图1(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图2系为有关于试验例2之图式;图2(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图2(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图3系为有关于试验例3之图式;图3(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图3(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图4系为有关于试验例4之图式;图4(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图4(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图5系为有关于试验例5之图式;图5(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图5(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图6系为有关于试验例6之图式;图6(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图6(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图7系为有关于试验例7之图式;图7(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图7(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图8系为有关于试验例8之图式;图8(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图8(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图9系为有关于试验例9之图式;图9(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图9(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图10系为有关于试验例10之图式;图10(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图10(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图11系为有关于试验例11之图式;图11(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图11(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图12系为有关于试验例12之图式;图12(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图12(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图13系为有关于试验例13之图式;图13(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图13(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图14系为有关于试验例14之图式;图14(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图14(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图15系为有关于试验例15之图式;图15(A)系为污染防治处理剂之化学式,而图15(B)系为由该污染防治处理剂之所组成之被覆膜之模式构造图。图16系为实施例1之西洋水洗式马桶之剖面图。图17系为实施例2之日本水洗式马桶之剖面图。图18系为实施例3之男性用水洗式小便器之立体图。图19系为实施例3之男性用水洗式小便器之部份破断俯视图。图20系为实施例4之具有洗脸盆之洗脸化粧台之俯视图。图21系为实施例4之具有洗脸盆之洗脸化粧台之前视图。图22系为用以显示出实施例4及比较例1之摩耗次数和水之接触角之间之关系之图形。
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