| 主权项 |
1.一种合成石英玻璃构件,系用于250nm以下之特定波长,其特征为;在该构件中让光线透过时与光轴垂直方向上透过率的变动幅度,每1cm厚的前述构件为1.0%以内。2.如申请专利范围第1项之合成石英玻璃构件,其中该构件系用于190nm以下之特定波长,在该构件中透过光线时与光轴垂直方向上透过率的变动幅度,每1/4英寸厚的前述构件为1.0%以内。3.如申请专利范围第1项之合成石英玻璃构件,其中该构件系用于190nm以下之特定波长,又该构件中OH基浓度为20ppm以下。4.如申请专利范围第1项之合成石英玻璃构件,其中该构件系用于190nm以上250nm以下之特定波长,又该构件中OH基浓度在500ppm以上1200ppm以下。5.如申请专利范围第1项之合成石英玻璃构件,其内部吸收在5.0%/cm以下。6.如申请专利范围第1项之合成石英玻璃构件,其内部散射在1.0%/cm以下。7.如申请专利范围第1项之合成石英玻璃构件,其内部缺陷之最大直径在0.5m以下。8.如申请专利范围第1~第7项中任一项之合成石英玻璃构件,该构件系透镜构件。9.如申请专利范围第1~第7项中任一项之合成石英玻璃构件,该构件系光罩构件。图式简单说明:第1图系对于本发明之合成石英玻璃构件之垂直于光轴方向之透过率分布之测定结果。第2图系概略地显示备有反射折射光学系统之投影曝光装置之全体构成之图。第3图系示意显示用以测定透过率之变动幅度及内部吸收之真空紫外域之分光光度计。第4图系显示以真空紫外域之分光光度求取透过率之变动幅度时,扫描被测定物之光束形状。 |
