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发明名称
用于矽表面及矽层之蚀刻糊状物
摘要
本发明系关于一种蚀刻糊状物形式的新颖蚀刻媒质,其可用来全区域及选择性地蚀刻矽表面及矽层;及其用途。
申请公布号
TW200404921
申请公布日期
2004.04.01
申请号
TW092124344
申请日期
2003.09.03
申请人
马克专利公司
发明人
阿曼尼 库贝尔贝克;塞尔克 克莱;沃纳尔 史塔库
分类号
C25F3/12;H01L21/3063
主分类号
C25F3/12
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
德国
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