发明名称 研磨磁碟基板用组成物及磁碟用基版之制造方法
摘要 本发明系有关至少含有水、氧化钛微粒子、研磨促进剂、该氧化钛以其单一结晶结构之氧化钛为90~100%者为特征之研磨磁碟基板用组成物者。且,藉由本发明之研磨磁碟基板用组成物使用后,提供一种磁碟基板用之表面粗细度小、不会产生突起、研磨损伤、微凹痕等之微细缺陷者,同时,可经济且快速进行研磨之研磨磁碟基板用组成物者。
申请公布号 TW581803 申请公布日期 2004.04.01
申请号 TW089112650 申请日期 2000.06.27
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 宫田宪彦
分类号 C09K3/14;B24B37/00;G11B5/84 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种研磨磁碟基板用组成物,其系至少含有水,氧 化钛微粒子,0.1重量%以上研磨促进剂之磁碟基板 之研磨用组成物,氧化钛微粒子之二次粒子之平均 粒径为0.1-1.0m,氧化钛微粒子之二次粒子之粒度 分布中,累积90重量%之粒径与10重量%之粒径比D90/D 10为3.0以内,且该氧化钛之单一结晶结构之氧化钛 为90-100%者。2.如申请专利范围第1项之研磨用组成 物,其中该研磨促进剂为铝盐或硝酸盐者。3.如申 请专利范围第2项之研磨用组成物,其中该铝盐为 硝酸铝者。4.如申请专利范围第1项之研磨用组成 物,其中该组成物为含有水溶性氧化剂者。5.一种 磁碟用基板之制造方法,其特征系于磁碟用基板( 原板)与研磨底座中供与如申请专利范围第1项之 研磨用组成物之同时,含使该磁碟用基板或该研磨 底座之至少一方进行旋转之工程者。
地址 日本