| 主权项 |
1.一种聚合物组成物,其含有选自聚醯胺与聚酯之 聚合物和作为在浅色背景上制成深色雷射标记所 用添加剂的0.1至10重量%之三氧化锑,相对于此聚合 物组成物总重,其特征在于该三氧化锑具有0.5至10 微米的平均粒度,且此组成物亦包括0.1至5重量%之 珍珠色素,且该珍珠色素与该三氧化锑的重量比为 1:0.5至1:50。2.如申请专利范围第1项之聚合物组成 物,其中该三氧化锑具有1至8微米的平均粒度。3. 如申请专利范围第2项之聚合物组成物,其中该三 氧化锑含量为0.5至5重量%。4.如申请专利范围第1-3 项中任一项之聚合物组成物,其中该聚合物组成物 基本上系无卤素者。5.如申请专利范围第1-3项中 任一项之聚合物组成物,其包括2至5重量%有至少1.5 微米的平均粒度之三氧化锑。6.如申请专利范围 第1或2项之聚合物组成物,其包含0.5至3重量%之三 氧化锑与0.1至3重量%之珍珠色素。7.一种在浅色背 景施加深色雷射标记之方法,其包括利用雷射光以 标记图样照射一物件,该物件在至少欲施加标记之 处系由如申请专利范围第1项之聚合物组成物所组 成,该雷射光之波长为200至1064奈米(nm)。8.如申请 专利范围第7项之方法,其中该三氧化锑具有1至8微 米的平均粒度。9.如申请专利范围第8项之方法,其 中该聚合物组成物含有0.5至5重量%之三氧化钛。10 .如申请专利范围第7-9项中任一项之方法,其中该 聚合物组成物基本上系无卤素者。11.如申请专利 范围第7-9项中任一项之方法,其中该聚合物组成物 合有2至5重量%之平均粒度至少1.5微米的三氧化锑 。12.如申请专利范围第7-9项中任一项之方法,其中 该物件系用波长为1064奈米(nm)的雷射光予以照射 的。13.如申请专利范围第7-9项中任一项之方法,其 中该物件系用来自二极体起能雷射的雷射光予以 照射的。14.如申请专利范围第7-9项中任一项之方 法,其中该物件系用来自Nd:YAG雷射的雷射光予以照 射的。 |
