| 主权项 |
1.一种电子线用及/或X光线用化学放大系负型光阻 组成物,其特征为包括含下述一般式(a)所示构造单 位之硷可溶性树脂、藉由电子线或X光线照射产生 酸之化合物及藉由酸交联的交联剂; (其中,R1系表示氢原子、卤素原子、氰基、可具取 代基之烷基、氧烷基或卤化烷基;x系表示0~3之整 数;R2系表示氢原子、可具取代基之烷基、环烷基 、烯基、芳烷基、芳基、或醯基,R2为数个时数个 可相同或不同;R3系表示相同或不同的氢原子、卤 素原子、氰基或可具取代基之烷基、环烷基、烯 基、芳烷基、或芳基,R3为数个时数个可相同或不 同;而且数个R2中有二个、数个R3中有二个、或R2与 R3键结形成环;A1系表示单键、可具取代基之2价伸 烷基、伸烯基、环伸烷基、或伸芳基、或-O-、-SO2 -、-O-CO-R5-、-CO-O-R6-、-CO-N(R7)-R8-, R5.R6.R8系表示相同或不同的单键、或具有醚基、 酯基、醯胺基、胺基甲酸酯或素基、以及可具 取代基之单独的伸烷基、伸烯基、环伸烷基、或 伸芳基;R7系表示氢原子、可具取代基之烷基、环 烷基、芳烷基、或芳基)。2.如申请专利范围第1项 之负型光阻组成物,其中硷可溶性树脂系为含有下 述一般式(1)所示构造单位之树脂; (其中,R1a系表示氢原子或甲基)。3.如申请专利范 围第1项之负型光阻组成物,其中硷可溶性树脂系 为含有下述一般式(2)所示之树脂; (其中,R1a~R5a系各表示独立的氢原子或甲基;R6a~R11a 系表示氢原子、碳数1~4个烷基或烷氧基、羟基或- C=O)O-R14a,R14a系表示氢原子、碳数1~4个烷基, R12a系表示-COOR15a(R15a系表示氢原子、碳数1~4个烷 基), 0<1≦100 0≦m、n、o、p<100 1+m+n+o+p=100)。4.如申请专利范围第1项之负型光阻 组成物,其中感放射线性酸发生剂含有至少一种下 述一般式(I)~(III)所示化合物; (其中,R1~R37系表示相同或不同的氢原子、直链状 、支链状或环状烷基、直链状、支链状或环状烷 氧基、羟基、卤素原子、或-S-R38,R38系表示直链状 、支链状或环状烷基或芳基,而且,R1~R15时可2个以 上互相直接在末端上键结、或经由选自氧、硫、 及氮之元素键结形成环构造,R16~R27时相同地形成 环构造,R28~R37时亦相同地形成环构造, X-系为酸之阴离子,形成阴离子之酸系为选自苯磺 酸、磺酸、苯磺酸之酸。或该酸具有至少一种选 自烷基、烷氧基、醯基、醯氧基、磺基、磺氧基 、磺基胺基、芳基、芳烷基、及烷氧羰基之的有 机基)。5.如申请专利范围第1项的负型光阻组成物 ,其中藉由酸交联的交联剂系惟在分子内含有3~5个 苯环原子团、分子量为1200以下、在该苯环原子团 上具有2个以上羟基甲基及/或烷氧基甲基之苯酚 衍生物。6.如申请专利范围第1项之负型光阻组成 物,其中含有有机硷性化合物。7.如申请专利范围 第1项之负型光阻组成物,其中含有氟系及/或矽系 界面活性剂。8.如申请专利范围第1项之负型光阻 组成物,其中硷可溶性树脂之分子量分布(Mw/Mn)为1. 0~1.5。9.如申请专利范围第1项之负型光阻组成物, 其中硷可溶性树脂之重量平均分子量(Mw)为2000~9000 。 |
