发明名称 卤素系排气之净化剂及净化方法
摘要 课题:本案开发一种净化方法,可以把半导体制程的排气中所含氟、氯、三氟化硼、三氯化硼、六氟化钨、四氯化矽等有含卤素系气体,以良好效率除去。解决手段:令含卤素系气体之排气,与在活性炭添加甲酸硷金属盐或甲酸硷土金属盐,或在活性炭添加甲酸硷金属盐或甲酸硷土金属盐以及硷金属氢氧化物或硷土金属氢氧化物之净化剂接触而净化。另外,在前段设有以金属氢氧化物或金属氧化物为有效成份之卤素系气体净化剂层,再于后段设有以金属氧化物和甲酸钠为有效成份之净化剂层,以便从该排气除去卤素系气体。
申请公布号 TW581708 申请公布日期 2004.04.01
申请号 TW088113245 申请日期 1999.08.03
申请人 派欧尼股份有限公司 发明人 大塚健二;荒川秩;长谷见隆司;网岛 丰;铃木规广
分类号 B01D53/68;B01J20/20 主分类号 B01D53/68
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种卤素系排气之净化剂,其系于活性碳中添加 甲酸硷金属盐和/或甲酸硷土金属盐,其特征在于: 在乾燥净化剂中该甲酸硷金属盐和/或甲酸硷土金 属盐之添加量重量比例为3-18%;其中含卤素系排气 系含有选自氟、氯、溴、碘、氟化氢、溴化氢、 碘化氢、三氟化氯、三氟化硼、三氯化硼、四氟 化矽、四氯化矽、四氯化钛、氯化铝、四氟化铝 、六氟化钨中至少一种之气体。2.一种卤素系排 气之净化剂,其系于活性碳中添加甲酸硷金属盐和 /或甲酸硷土金属盐,以及硷金属氢氧化物和/或硷 土金属氢氧化物,其特征在于:在乾燥净化剂中,该 甲酸硷金属盐和/或甲酸硷土金属盐及硷金属氢氧 化物和/或硷土金属氢氧化物之合计添加量重量比 例为3-18%者,而且甲酸盐与氢氧化物之当量比为1:0. 1~3.0;其中含卤素系排气系含有选自氟、氯、溴、 碘、氟化氢、溴化氢、碘化氢、三氟化氯、三氟 化硼、三氯化硼、四氟化矽、四氯化矽、四氯化 钛、氯化铝、四氟化铝、六氟化钨中至少一种之 气体。3.一种卤素系排气之净化方法,其特征为:令 含有害成份卤素系气体之排气,与在活性碳添加甲 酸硷金属盐和/或甲酸硷土金属盐之净化剂接触而 净化;其中含卤素系排气系含有选自氟、氯、溴、 碘、氟化氢、溴化氢、碘化氢、三氟化氯、三氟 化硼、三氯化硼、四氟化矽、四氯化矽、四氯化 钛、氯化铝、四氟化铝、六氟化钨中至少一种之 气体。4.一种卤素系排气之净化方法,其特征为:令 含有害成份卤素系气体之排气,与在活性碳中添加 甲酸硷金属盐和/或甲酸硷土金属盐,以及硷金属 氢氧化物和/或硷土金属氢氧化物之净化剂接触而 净化;其中含卤素系气体之排气系含有选自氟、氯 、溴、碘、氟化氢、溴化氢、碘化氢、三氟化氯 、三氟化硼、三氯化硼、四氟化矽、四氯化矽、 四氯化钛、氯化铝、四氟化锗、六氟化钨至少一 种之气体。5.如申请专利范围第3或4项之卤素系排 气之净化方法,其中后处理系进一步与添加有甲酸 钠之以二氧化锰(MnO2)为主成份的金属氧化物净化 剂接触。6.如申请专利范围第3或4项之卤素系排气 之净化方法,其中前处理系先与金属氢氧化物或金 属氧化物组成的卤素系气体之净化剂接触。7.如 申请专利范围第3或4项之卤素系排气之净化方法, 其系于前处理中先与金属氢氧化物或金属氧化物 组成的卤素系气体之净化剂接触,再于后段处理中 与添加有甲酸钠之以氧化铜(CuO),二氧化锰(MnO2)为 主成份的金属氧化物净化剂接触。
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