发明名称 薄膜形成方法、光学膜、偏光膜及影像显示方法
摘要 本发明系揭示一种形成层或诸层的方法,其包含将具有第一个表面及与第一个表面对立的第二个表面之基板输送至在彼此对立的第一个电极与第二个电极之间形成的间隙(第二个表面具有不超过0.9的动摩擦系数),以及将基板的第一个表面加以在大气压力或约大气压力下及同时以反应气体供应至间隙的电浆放电处理,以形成层的步骤。
申请公布号 TW581819 申请公布日期 2004.04.01
申请号 TW091107505 申请日期 2002.04.12
申请人 柯尼卡股份有限公司 发明人 村上隆;福田和浩
分类号 C23C14/22;B01J19/08;G02B1/10;G02B5/30 主分类号 C23C14/22
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种形成层或诸层的方法,该方法包含步骤: (a)将具有第一个表面及与在和第一个表面相对之 侧上的第二个表面之基板输送至形成在彼此相对 的第一个电极与第二个电极之间的间隙,第二个表 面具有不超过0.9的动摩擦系数,以及 (b)在大气压力或约大气压力下使基板的第一个表 面遭受到电浆放电处理以形成层,而同时将反应气 体供应到间隙。2.如申请专利范围第1项的方法,其 中,该基板具有从10至60微米的厚度及其有不小于1. 4102牛顿/平方毫米的张力强度。3.一种形成第一 层的方法,该方法包含步骤: 使基板之表面或设置在基板上之第二层遭受到电 浆放电处理,以形成第一层在大气压力或约大气压 下于形成在彼此相对的第一个电极与第二个电极 之间的间隙处,而同时将反应气体供应至间隙,其 中基板在23℃及80%RH下具有不超过4%的水份含量。4 .如申请专利范围第3项的方法,其中,已将基板拉伸 于横方向上。5.如申请专利范围第3或4项之方法, 其中,在基板上所设置的第二层系硬化的树脂层, 其中,已将各具有乙烯化不饱和双键之单体或寡聚 物聚合及硬化。6.如申请专利范围第1至4项中任一 项之力法,其中,基板系纤维素酯膜。7.如申请专利 范围第6项之方法,其中,纤维素酯膜包含具有总醯 基取代度从2.55至2.95的纤维素酯。8.如申请专利范 围第1至4项中任一项之形成层或诸层的方法,其中, 该层或诸层可以被使用来形成光学膜。9.如申请 专利范围第8项之形成层或诸层的方法,其中,该光 学膜被使用于偏光板中当作保护膜。10.如申请专 利范围第8项之形成层或诸层的方法,其中,该光学 膜被使用于影像显示部。图式简单说明: 图1系展示在本发明的层形成法中使用的电浆放电 装置的一个具体实施例的概要图示。 图2系展示对本发明的层形成法有用的电浆放电装 置的一个具体实施例的概要图示,该装置包含旋转 电极及固定电极。
地址 日本
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