发明名称 | 基板处理装置及基板清洗设备 | ||
摘要 | 目的在于提供可有效防止从基板上剥离的污染物再次附着到基板上,同时可切实除去附着在基板端部的污染物,可望提高清洗效果的基板处理装置以及基板清洗设备。在该基板处理装置(1)上,一边倾斜传送基板W一边进行清洗处理,从传送方向A上游侧依次设置低压喷出纯水的喷射部(33)、(35)、(37)、(41)、(43)、高压喷出纯水的喷射部(47)、(49)、(55)、喷出纯水与空气的雾状混合流体的喷射部(53)。在各清洗部(7)、(9)、(11)、(13)之间设置作为管状喷嘴等的水流形成部(19)、(21)、(23),在清洗部(7)的前段以及清洗部(13)的后段,设置液体幕状等的水流形成部(17)、(25)。在水流形成部(25)的后段,设置从装置(1)外的供给线(63)提供未使用过的纯水的喷射部(59)、(61)。 | ||
申请公布号 | CN1485150A | 申请公布日期 | 2004.03.31 |
申请号 | CN03154801.6 | 申请日期 | 2003.08.19 |
申请人 | 大日本屏影象制造株式会社 | 发明人 | 芳谷光明 |
分类号 | B08B3/02;B08B3/10 | 主分类号 | B08B3/02 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏;杨松龄 |
主权项 | 1.一种基板处理装置,其特征在于:具有对沿既定的传送通道传送的基板喷出高压的清洗液进行清洗的第1喷射部、以及设置在前述传送通道上的前述第1喷射部的传送方向下游侧且混合清洗液和气体作为雾状的混合流体对沿前述传送通道传送的基板喷出进行清洗的第2喷射部。 | ||
地址 | 日本京都府京都市 |