| 发明名称 | 模版形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光阻层；于第一光阻层上涂布一阻绝层；于阻绝层上涂布一第二光阻层；以一光束对第二光阻层进行曝光；以另一光束穿透阻绝层对第一光阻层进行曝光；进行显影；及朝第二光阻层的方向溅镀一金属层，另外，本发明亦提供另一种模版形成方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1485838A | 申请公布日期 | 2004.03.31 |
| 申请号 | CN02143407.7 | 申请日期 | 2002.09.24 |
| 申请人 | 精碟科技股份有限公司 | 发明人 | 邓国欣;廖浩嘉 |
| 分类号 | G11B7/26 | 主分类号 | G11B7/26 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 陈肖梅;文琦 |
| 主权项 | 1.一种模版形成方法，用以形成一模版，其特征在于，该模版形成方法包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光阻层；于该第一光阻层上涂布一阻绝层；于该阻绝层上涂布一第二光阻层；以一光束对该第二光阻层进行曝光；以另一光束穿透该阻绝层对该第一光阻层进行曝光；进行显影；及朝该第二光阻层的方向溅镀一金属层。 | ||
| 地址 | 台湾省台北县五股乡五权七路13号 | ||