| 发明名称 |
DEPOSITION METHOD, DEPOSITION APPARATUS, INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL158094(D0) |
申请公布日期 |
2004.03.28 |
| 申请号 |
IL20020158094 |
申请日期 |
2002.03.25 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA WATANABE SHOKO;TAKASHI SUGINO |
发明人 |
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| 分类号 |
C23C16/38;C23C16/36;C23C16/452;C23C16/509;H01L21/31;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L |
主分类号 |
C23C16/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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