| 发明名称 |
Strahlungsempfindliches Gemisch und dessen Verwendung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE59908549(D1) |
申请公布日期 |
2004.03.25 |
| 申请号 |
DE19995008549 |
申请日期 |
1999.04.12 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
HIEN, STEFAN DR.;SEBALD, MICHAEL DR. |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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