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发明名称
SOLVENT RESISTANT COPOLYMERS
摘要
A radiation-sensitive composition for use in printing plates is described. The composition comprises: (a) at least one novolak; (b) at least one naphthoquinone diazide derivative; and (c) a copolymer comprising units A, B, and C:
申请公布号
WO03083577(A3)
申请公布日期
2004.03.25
申请号
WO2003EP03559
申请日期
2003.03.13
申请人
KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH
发明人
JAREK, MATHIAS
分类号
C08F222/40;G03F7/023
主分类号
C08F222/40
代理机构
代理人
主权项
地址
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