发明名称 SOLVENT RESISTANT COPOLYMERS
摘要 A radiation-sensitive composition for use in printing plates is described. The composition comprises: (a) at least one novolak; (b) at least one naphthoquinone diazide derivative; and (c) a copolymer comprising units A, B, and C:
申请公布号 WO03083577(A3) 申请公布日期 2004.03.25
申请号 WO2003EP03559 申请日期 2003.03.13
申请人 KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH 发明人 JAREK, MATHIAS
分类号 C08F222/40;G03F7/023 主分类号 C08F222/40
代理机构 代理人
主权项
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