| 发明名称 |
Procédé pour faire croître épitaxialement des couches semi-conductrices sur des pastilles monocristallines de substance semi-conductrice |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR1372155(A) |
申请公布日期 |
1964.09.11 |
| 申请号 |
FR19630949461 |
申请日期 |
1963.10.03 |
| 申请人 |
SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
C01B33/02;C30B25/08;C30B25/12;H01L21/00;H01L29/06 |
主分类号 |
C01B33/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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