发明名称 |
Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von zumindest oberflächlich elektrisch leitfähigem Behandlungsgut |
摘要 |
Bei der elektrolytischen Behandlung von Leiterplatten mit sehr dünner Grundmetallisierung besteht das Problem, dass die Behandlung in verschiedenen Bereichen auf der Leiterplattenoberfläche zu ungleichmäßigem Behandlungsergebnis führt. Um dieses Problem zu lösen, wird eine Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von zumindest oberflächlich elektrisch leitfähigem Behandlungsgut vorgeschlagen, das zumindest zwei zueinander im Wesentlichen gegenüberliegende Seitenränder aufweist. Die Vorrichtung umfasst Stromzuführungsvorrichtungen für das Behandlungsgut, wobei die Stromzuführungsvorrichtungen jeweils Kontaktleisten an den zueinander gegenüberliegenden Seitenrändern umfassen, die das Behandlungsgut an den im Wesentlichen zueinander gegenüberliegenden Seitenränderrn elektrisch kontaktieren können.
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申请公布号 |
DE10241619(A1) |
申请公布日期 |
2004.03.25 |
申请号 |
DE20021041619 |
申请日期 |
2002.09.04 |
申请人 |
ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH |
发明人 |
SCHNEIDER, REINHARD;KENNY, STEPHAN;KUESSNER, TORSTEN;PLOESE, WOLFGANG;REENTS, BERT;STREUP, HERIBERT |
分类号 |
C25D7/00;C25D17/06;C25D17/08;C25D17/12;C25D17/28;C25F7/00;H05K3/24;(IPC1-7):C25D17/00;C25D17/04 |
主分类号 |
C25D7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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