发明名称 | 半导体器件及其有关集成电路 | ||
摘要 | 一种薄膜晶体管或集成电路,包括一绝缘基片,在该基片上形成的TFTs(薄膜晶体管),以及多层导电互连。该电路具有成为栅电极与栅互连的第一金属化层。第一金属化层的表面经阳极氧化,氧化形成第一金属化表面上的绝缘被覆膜,变成源与漏电极或导电互连的第二金属层,于是直接或经过一层间绝缘层形成在绝缘被覆膜上。随之改进成品率及改善可靠性。 | ||
申请公布号 | CN1143395C | 申请公布日期 | 2004.03.24 |
申请号 | CN99120393.3 | 申请日期 | 1992.09.25 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平;竹村保彦;间濑晃;鱼地秀贵 |
分类号 | H01L27/12;H01L29/786 | 主分类号 | H01L27/12 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张志醒 |
主权项 | 1.一种有源矩阵器件,包括:至少一个顶部栅薄膜晶体管,形成于一基片之上;一个象素电极,形成于所述基片之上并与所述薄膜晶体管电连接;一个电容器,形成于一电容器形成电极和所述象素电极的一部分的之间,一绝缘膜置于其间,其中所述绝缘膜包括所述电容器形成电极的氧化表面。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |