发明名称 |
多层反射膜及其制程 |
摘要 |
本发明公开一种多层反射膜及其制程,可与其他已知的制程合并应用于发光元件的微共振腔的制造;其步骤包括:(一)、在一发光元件的透明基板上进行溅镀,同时加入第一种浓度或成份的反应气体,形成具有第一种光折射率的薄膜;(二)、持续前一步骤的溅镀,将所加入的反应气体换成第二种浓度或成份的气体;形成具有第二种光折射率的薄膜;及(三)、重复进行前两步骤,借以形成相邻两层的光折射率互不相同的多层反射膜,必要时,于进行步骤(一)之前,先以涂布或溅镀的方法,在透明基板上添加一种高穿透率的高分子化合物,或是高穿透率的无机薄膜,使之至少构成一界面缓冲层,将可减少在溅镀过程中发生多层反射膜剥落或劣化的机会。 |
申请公布号 |
CN1484330A |
申请公布日期 |
2004.03.24 |
申请号 |
CN02142926.X |
申请日期 |
2002.09.16 |
申请人 |
铼德科技股份有限公司 |
发明人 |
吕东奎;王威翔 |
分类号 |
H01L51/20;H01L51/40;C23C14/34 |
主分类号 |
H01L51/20 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
楼仙英;陈红 |
主权项 |
1、一种多层反射膜的制程,其特征在于制造步骤至少包括:(a)溅镀沉积第一多层反射膜,在一发光元件的透明基板上进行溅镀,同时加入第一种反应气体,形成具有第一种光折射率的薄膜;(b)溅镀沉积第二多层反射膜,持续前一步骤的溅镀,将前述第一种反应气体换成第二种反应气体,借以形成具有第二种光折射率的薄膜;及(c)重复进行前两步骤,借以形成一种相邻两层的光折射率皆不同的多层反射膜。 |
地址 |
台湾省新竹县 |